服務熱線
021-67898912
產(chǎn)品分類
相關文章
您的位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > 分散機 > 研磨分散機 > 輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機
產(chǎn)品中心
-
產(chǎn)品名稱：
輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機
產(chǎn)品型號： GMD2000/4更新時間： 2026-03-23描述：SGN輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機可以處理量大，運轉(zhuǎn)更平穩(wěn)，拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，*，物料98%通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。
產(chǎn)品介紹
輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機，輕鈣粉研磨分散機，高速研磨分散機，高剪切研磨分散機，德國進口研磨分散機，氫氧化鈣研磨分散機，管線研磨分散機，在線研磨分散機，連續(xù)研磨分散機
SGN輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機可以處理量大，運轉(zhuǎn)更平穩(wěn)，拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，*，物料98%通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。
GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
GMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構,有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
| 技術及價格請來電：劉 ，公司有樣機可供客戶購前實驗，歡迎廣大客戶來我司參觀指導！ |
的特點：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設備其它參數(shù):
設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器
從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
GMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
相關產(chǎn)品
- (上一篇)：GRS2000/4可溶性聚四氟乙烯濃縮分散液高速乳化機
- (下一篇)：GM2000/4中試型鹽酸頭孢噻呋膠體磨